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차세대 융복합 인시츄 나노분석 시스템

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인포그래픽 < 차세대 융복합 인시츄 나노분석 시스템 < 선도연구장비

나노소재 합성에서 분석 및 소자 제작/측정까지 15개 공정, 분석장비가 하나로! 차세대 융복함 in-situ 나노분석시스템

세계 일류의 첨단과학을 이끄는 KBSI의 선도연구장비를 소개합니다

"나노소재 합성에서 분석 및 소자 제작/측정까지" 15개 공정, 분석장비가 하나로! 차세대 융복함 in-situ 나노분석시스템

제원 및 특징

차세대 융복함 in situ 나노분석시스템이란?
  • 차세대 나노소재의 합성과 분석 및 소자제작과 측정까지 시료의 공기 노출 없이 진행할 수 있는 최첨단 대형연구장비
  • 하나의 시료로 오염없이 다양한 분석 연구 진행이 가능
  • 실시간 또는 in-situ 분석을 통해 물질의 성장메커니즘 및 상변이 과정 정밀 연구 가능

합성(나노소재 합성/증착) → 초고진공 시료 이송장치(시료가 공기에 노출되지 않고 오염없이 이동) → 성분/구조분석(조성비, 전자구조, 상태변화 분석) → 이미징(원자부터 수십um 영역의 형태와 구조 분석) → 소자제작 및 측정(오염없는 소재로 소자제작, 다양한 형상의 소자제작, 극저원에서 전기적 특성 평가)

장비 구성 설명

Left side

  • PEALD(공정)
  • Thermal Evaporator(공정)
  • CVD(공정)
  • Sputter(공정)
  • PLD(2017)(공정)
  • HV-CVD(공정)
  • LEEM/PEEM(분석)

right side

  • ARUPS(분석)
  • Raman + Glove box(2017)(분석)
  • Probe station(2017)(분석)
  • LTS(11.3m)
  • Pattern generator + Glove box(2017)(공정)
  • SPM(분석)
  • XPS/UPS(분석)
  • NAP-XPS(분석)
장비 구성 설명
분류 약어 장비명 용도
분석 SPM Scanning Probe Microscopy 주사탐참현미경 원자레벨 이미징
분석 u-XPS Micro X-ray Photoelectron Spectroscopy X-선/자외선 광전자분광기 조성 및 전자구조 분석
부대 LTS Linear(Sample) Transfer System 선형이동시스템 각 장비로 시료 이송
공정 PEALD Plasma-enhanced Atomic Layer Deposition 플라즈마 원자층증착기 원자층 두께로 조절하며 물질 제작
분석 NAP-XPS Near-ambient pressure XPS(국내최초) 유사상압X-선 광전자분광기 25mbar에서 촉매반응 등에 의한 조성 및 전자구조 변화 측정
공정
Thermal Evaporator 열증착기 다양한 금속 박막 제작
공정 HV-CVD High Vacuum ChemicalVapor Deposition 고진공화학증착기 고진공에서 나노 물질 합성
분석 LEEM/PEEM Low Energy Electron Microscopy/Photoemissing Electron Microscopy(국내 최초) 수차보정 저에너지전자현미경 광전자현미경 수~수십 eV전자현미경, 나노물질 형태와 구조 관측(해상도 ~ 1.5nm)
공정 TCVD Thermal Chemical Vapor Deposition 열화학증착기 저차원 나노물질 합성
공정 DC/RF sputter DC/RF Magnetron Sputter DC/RF 스퍼터 고순도 금속 및 금속산화물 제작
분석 ARUPS Angle-resolved UV Photoelectron Spectroscopy 각분해자외선광전자분광기 k-space 전자구조 측정
분석
Low-temperature Prode Station 저온 프로부 스테이션 다양한 소자 특성 측정
공정
Glove box 글로브박스 오염없이 소자제작 공간
분석 Raman Raman Spectroscopy 라만분광기 성분 구조 분포 측정
공정
Pattern generator 패턴형성기 소자 패턴 제작
공정 PLD Pulsed Laser Deposition 펄스레이저증착기 초고순도 금속, 반도체 물질 제작

활용분야

저차원 신소재 나노소자의 표면/계면 분석연구

  • 신소재 개발 및 종합 물성 분석
  • 2차원 소재의 물리화학적 표면 구조/물성 분석
  • 초고진공 및 반응환경에서의 촉매물질의 성분분석
  • 나노 물질의 전자구조 연구

장비구축 로드맵

(A) : 분석장비
(P) : 공정장비
(S) : 부대장비

  • 2011 1. UHV-SPM(A)
  • 2012 2. u-XPS(A) 3. LTX(S) 3-1. Intro chamber(S)
  • 2013 4. PEALD(P)
  • 2014 5. NAP-XPS(A) 6. Thenrmal Evaporator(P) 7. HV-CVD
  • 2015 8. LEEM/PEEM(A) 9. TCVD(P) 10. DC/RF Sputter(P) 3-2. LTS extension(S)
  • 2016 11. ARUPS(A) 12. Probe station(A) 13. Glove box(P) 14. GCIS(S)
  • 2017 14. Raman(A) 15. Patter generator(P) 16. PLD(A)


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